경제

삼성전자 DRAM 양산용 High-NA EUV 도입 및 12인치 포토마스크 공동개발 이슈

삼성전자는 ASML과의 협력으로 차세대 High-NA EUV를 2028년 DRAM 양산에 적용하는 계획을 확정했다. 또한 12인치 포토마스크 공동개발에 참여해 12인치 도입과 생산 인프라 표준화, 기술 개발을 추진하며 ASML 주도 대형 마스크 컨소시엄의 일원으로 DRAM 경쟁력을 강화한다.

기사 20건 · 언론사 17곳 · 최근 보도 09.09 02:36

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